真空烧结炉

真空烧结炉广泛应用于陶瓷、碳化硅、硬质合金材料、光电镀模材料和石墨纯化的真空烧结处理。

主要用途

应用于硬质合金、钽、铌、铜钨合金、钨、钼、铝镍钴永磁、SmCo5、Sm2Co17及钕铁硼、钛合金、陶瓷、碳化硅、光电镀模材料和石墨纯化的真空烧结处理。

主要特点

22400℃以内超高温炉体，可完全满足各种材料的烧结。

2采用数显化智能控温系统，全自动高精度完成测温控温过程，系统可按给定升温曲线升温，并可贮存二十条共400段不同的工艺加热曲线。

2采用内循环纯水冷却系统，数字式流量监控系统；

2采用高性能中频接触器对炉体进行自动转换；

2全面的PLC水、电、气自动控制和保护系统。

技术参数